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半导体真空设备怕挥发污染？铭宏FY120全氟耐化学润滑脂，高洁净低挥发守护精密制程良率
半导体装备、高真空精密化工设备对润滑介质洁净度提出极高标准。普通润滑脂挥发物、析出杂质容易污染真空腔体，造成零部件卡滞，干扰精密制程，直接拉低产品良率。同时设备还要面对高温、微量化学介质侵蚀，普通油脂耐化学性能不足，极易出现润滑失效，带来设备检修、产能损失。 铭宏FY1201、FY1202、FY1203高温耐化学润滑脂，采用高纯全氟碳油搭配食品级PTFE稠化剂，经过多道精密提纯工艺，杂质含量低，实现低挥发、高洁净，满足高端精密设备使用条件。‑40℃～230℃宽温域，高温抗氧化，低温不凝固；化学惰性强，抵御微量腐蚀介质，在真空环境下保持稳定油膜，保护精密轴承、微型泵、精密阀门、密封组件，避免卡顿、泄漏。产品和精密合金、特种塑料、氟橡胶兼容性优异，不腐蚀、不变形。支持长周期乃至终生润滑，一次加注，减少拆机维护，规避拆装对精密设备带来的精度损伤。 适配半导体设备、真空镀膜设备、精密化工制程机械。铭宏可提供工况勘测、试样验证、使用指导全套服务，助力高端智造企业改善制程良率，降低设备维护压力。 |
